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Se propone brindar un seminario sobre la técnica de interferometria de baja coherencia, donde se analizaran sus principios teóricos, configuraciones experimentales y aplicaciones, y análisis de señales. 
En particular se comentaran distintas aplicaciones desarrolladas por el grupo de Fotónica Aplicada (GFA) en aplicaciones industriales.
Se desarrollaran como temática de interés los límites de la técnica y distintas formas de sobrepasarlos.

Los láseres de pulsos de femtosegundo son una herramienta única para la modificación precisa de materiales. De especial interés es su aplicabilidad en materiales ópticamente transparentes debido a que la absorción de la luz, en principio imposible de producirse en condiciones normales, se desencadena mediante procesos de ionización no lineales. Así pues, este campo de investigación es de interés por sus posibles aplicaciones, pero también lo es para el estudio de los fenómenos físicos extremos a los que se somete la materia. En esta charla, se mostrarán ambas facetas.

En la primera parte del seminario, se presentarán los resultados obtenido mediante una técnica de microscopia con resolución temporal ultracorta que permite monitorizar la transformación del material después de una irradiación. Mediante el análisis de imágenes y la modelización óptica, se caracterizan los mecanismos ultrarrápidos de excitación electrónica, expansión y transformación del material. En particular, se presentará la dinámica de la ablación del niobato de litio (dieléctrico) [1] y los mecanismos de formación de estructuras periódicas amorfo-cristalinas en el silicio (semiconductor) [2].

En la segunda parte de la charla, se describirán aspectos más tecnológicos ligados a las limitaciones en resolución y reproducibilidad del procesado láser con pulsos de femtosegundos. En primer lugar, se demostrará como la resolución del mecanizado no depende de la naturaleza no-lineal de la absorción de la luz [3]. En segundo lugar, se presentará un modelo sencillo para la evaluación apriorística de la repetibilidad del procesado láser, demostrado experimentalmente al inducir modificaciones en el material tan pequeñas como 1/10 del tamaño del haz con una fuente láser muy estable de 200 fs [4].

[1] M. Garcia-Lechuga, J. Siegel, J. Hernandez-Rueda, and J. Solis, Appl. Phys. Lett. 105, 112902 (2014).

[2] M. Garcia-Lechuga, D. Puerto, Y. Fuentes-Edfuf, J. Solis, and J. Siegel, ACS Photonics 3, 1961 (2016).

[3] M. Garcia-Lechuga, O. Utéza, N. Sanner, and D. Grojo, Opt. Lett. 45, 952 (2020).

[4] M. Garcia-Lechuga, G. Gebrayel El Reaidy, H. Ning, P. Delaporte, and D. Grojo, Appl. Phys. Lett. 117, 171604 (2020).